Технические параметры:
| Характеристика | Значение |
|---|---|
| Модель | XT-200 |
| Рабочая зона | 300×300 мм |
| Скорость травления | 1–50 мкм/час (зависит от материала) |
| Точность контроля глубины | ±0.1 мкм |
| Давление XeF₂ | 1–10 Торр |
| Мощность | 2500 Вт |
| Габариты | 1500×900×1200 мм |
Уникальные особенности:
Многослойная защита – двойные уплотнения камеры и система аварийного отключения.
Совместимость с чувствительными материалами – кремний, молибден, стекло, полимеры.
Встроенная аналитика – мониторинг расхода газа и толщины удаляемого слоя в реальном времени.
Области применения:
Изготовление MEMS- и NEMS-устройств
Травление сенсоров и микромеханических компонентов
Подготовка поверхностей для нанесения нанопокрытий
Научные исследования в области микроэлектроники
Комплектация:
Герметичная камера травления с кварцевым окном
Блок подачи и нейтрализации XeF₂
Контроллер с сенсорным интерфейсом (русификация)
Набор датчиков давления и расхода газа
Почему выбирают XT-200?
🔹 Сертификаты безопасности – CE, ISO 45001, ГОСТ Р.
🔹 Адаптивность – настройка параметров под любые типы пластин.
🔹 Поддержка в РФ – шеф-монтаж, обучение, гарантия 2 года.
